シリコン半導体の結果 ~ Amazingpngtt5

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シリコン化合物系絶縁膜の成膜方法要約課題低誘電率であり、且つ、膜質にも優れたシリコン化合物系絶縁膜を成膜する方法を提供する。特許請求の範囲請求項1 プラズマCVD装置のチャンバ内に原料ガスのプラズマを生成させ、該チャンバ内に載置された基体上にシリコンシリコンは、有機ケイ...